【CSEAC 2022】思锐智能参展第十届中国半导体设备年会

第十届中国半导体设备年会（CSEAC)

时间：2022年7月27-29日

地点：无锡太湖国际博览中心

展/商/推/荐

青岛四方思锐智能技术有限公司

展位号：B3-27

     青岛四方思锐智能技术有限公司, 是对标国家战略性新兴产业发展方向，面向“半导体装备”等关键核心技术的智能科技公司。2018年9月，思锐智能完成了对芬兰Beneq Oy 100%股权的收购工作。 

    思锐智能以Beneq为海外技术研发中心，逐步开展ALD技术研发与产业化落地，通过整合 Beneq 近 40年成熟应用的 ALD 镀膜技术与国内产业化优势，聚焦集成电路、功率与化合物半导体、泛半导体和光学固态锂电为代表的工业镀膜应用领域，为全球客户提供成熟领先的 ALD 镀膜解决方案，助力半导体等相关行业发展。 

网址：www.sri-i.com

产品展示

Product presentation

半导体晶圆ALD设备

 Beneq Transform^® 

Beneq Prodigy^TM

Beneq Transform^® 300

Beneq Transform^® 设备系列采用全新的集群设计和尖端的镀膜沉积技术, 为12”及以下晶圆的表面沉积多种材料，并实现完全保形和高均匀性的薄膜沉积。具备多种配置，兼容单片，批量，热法及等离子体增强 ALD 工艺模块，可满足特定的晶圆产能要求，并提供无与伦比的灵活性，也可为应对不断增长的产量或新的ALD 应用而进行升级。

Beneq Transform^® , Transform^® Lite, Prodigy^TM, Transform^®  300设备可为化合物半导体、 MEMS 和传感器、光学、IDM和Fab提供一站式 ALD 解决方案。

工业量产ALD设备

Beneq P800

 Beneq P400A

 Beneq P1500

是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统，适用于各种基底类型和镀膜。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统经过工业认证，技术成熟可靠。

Beneq P800, P400A, P1500设备可用于各种基底、机械零件、镜片和光学球型透镜等。P800通常用于批量处理直径大于600mm的部件，为半导体核心零部件提供理想的工业镀膜解决方案。

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