【CSEAC 2022】拓荆科技参展第十届中国半导体设备年会

第十届中国半导体设备年会（CSEAC)

时间：2022年8月20-22日

地点：无锡太湖国际博览中心

展/商/推/荐

拓荆科技股份有限公司

展位号：B3-49

        拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项研制高端设备。拓荆是国内薄膜的龙头企业，已多次获评中国半导体行业协会的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司，全面加强研发、生产和服务客户的能力。

网址：www.piotech.cn

产品展示

Product presentation

ALD产品系列

拓荆提供一系列 ALD 沉积设备,满足于ALD 薄膜在芯片制造的广泛应用和需求：

1.快速沉积周期的薄 ALD 膜

2.具有较长沉积时间的厚ALD膜

3.ALD 与 CVD 或 PECVD 多种薄膜叠层沉积的组合应用

PF-300T Astra

该产品是搭配在PF-300T平台上的原子层沉积设备，可配置3个2站的反应腔。现已应用于先进的芯片制造及先进封装（TSV）领域，现可提供具有高质量的PEALD薄膜，如SiO2、SiN薄膜，并陆续开发金属氧化物及金属氮化物等薄膜工艺。

NF-300H Astra

该产品是多站高产能原子层沉积设备，可配置3个6站的反应腔。现已应用于先进的芯片制造领域，现可提供具有高质量的厚ALD膜，并实现高产能，在均匀性、颗粒度及台阶覆盖性等方面实现技术突破。

TS-300 Altair

该产品是搭配在新TS-300平台上可集成ALD沉积设备，可配置5个2站的反应腔。其可搭配的反应腔已广泛用于先进的芯片制造领域。该设备针对10纳米及7纳米以下的叠层应用提供薄膜沉积和产能的优化方案。

会议支持单位

Conference Sponsor

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十周年活动

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2022年7月29日至8月10日将开放会议【免费】 报名通道，所有参会人员现场皆可领取一份周年纪念品，转发海报更有机会抽取京东购物卡。(海报详情请见二条推送~)

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